ООО «Клотис» более 9 лет надежный поставщик микроэлектроники и комплектующих импортного и отечественного производства.
-
Пленка DENKA
Пленка Denka UV type UHP-0810AT
по запросуБазовая пленка — Полиолефин (ПО)
Цвет — молочно-белый
Общая толщина (мкм) — 90
Толщина клея (адгезивного слоя) (мкм) -10
Прочность клея (после УФ-облучения) (Н/20 мм) — 2.50 (0.05)
Липкость зонда (Н/20 мм2) — 2.10Демонстрирует превосходную приемистость.
-
Пелликлы
Пелликл ASM07P 122 1017 HLFC (MLI) Micro Lithography
по запросуASM07P-122-1017 HLFC (109*086*5.00) мм
Пелликл — представляет собой прозрачную для излучения мембрану, располагающуюся на расстоянии нескольких миллиметров над рабочей поверхностью, служащий для защиты поверхности маски от попадания загрязнений.
-
Фотошаблонные заготовки
Заготовка шаблона кварцевая SBN- 6025-1Т-FЕР171 МЕ SnS Теchnology
по запросуФотошаблонные заготовки предназначены для изготовления фотошаблонов, применяемых в технологии производства интегральных схем и других изделий микроэлектроники.
-
Полировальные суспензии
Суспензия полировальная AEP Т800
по запросуAnji Microelectronics.
Суспензия полировальная AEP T800 — это профессиональное средство для полировки поверхностей, которое обеспечивает превосходный результат и высокое качество обработки. AEP T800 — это полировальная суспензия, которая используется для обработки поверхностей перед нанесением покрытия. Она состоит из абразивных частиц, которые удаляют неровности и загрязнения с поверхности, а также улучшают адгезию покрытия к поверхности. Суспензия AEP T800 может быть использована для полировки различных материалов, включая металл, пластик и дерево.
-
Merck Performance Materials
Фоторезист AZ 40XT-11D — 3.785 л
по запросуAZ 40XT-11D (Галлон 3.785л) Electronic Material — позитивный фоторезист повышенной толщины с химическим усилением; отличается высокой фотоскоростью для гальванических работ. Экспонирование и проявление фоторезиста происходит очень быстро, что повышает производительность оборудования и снижает потребление химикатов.
ХАРАКТЕРИСТИКИ:
Толщина фотослоя — >30 мкм
Проявители -AZ® 400K, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF
Средства удаления — AZ® 100 Remover, TechniStrip® P1316, TechniStrip® P1331, Intelligent fluids SH5Производитель: Merck Performance Materials
-
Merck Performance Materials
Фоторезист AZ®-1518 3.785 л
по запросуФоторезист AZ® 1518 — тонкий позитивный резист с высоким потенциалом разрешения для влажного травления.
Производитель: Merck Performance Materials
-
Dow и DuPont
Фоторезист с высоким разрешением MEGAPOSIT SPR 955 CM-1.4 (3,785 л)
по запросуПроизводитель: Dow Chemical Company
-
