Антиотражающее покрытие AZ® BARLI™ II200
по запросу
AZ ® BARLi™ II 200 — это антибликовое покрытие для нижнего слоя, предназначенное для использования на сильно отражающих поверхностях в полупроводниковой промышленности.
Производитель: Merck Performance Materials
Нижнее антиотражающее покрытие.
Похожие товары
-
Merck Performance Materials
Фоторезист AZ 4533 — 3.785 л
по запросуAZ® 4533 — позитивный резист с оптимизированной адгезией для влажного травления.
Производитель: Merck Performance Materials
-
Merck Performance Materials
Антиотражающее покрытие AZ® Barli™ II 90
по запросуAZ ® BARLi ™ II 90 — это антибликовое покрытие для нижнего слоя, предназначенное для использования на сильно отражающих поверхностях в полупроводниковой промышленности.
3.785 л.
-
Merck Performance Materials
Растворитель жидкий Solvent AZ EBR 7030
по запросуРастворитель жидкий Solvent AZ EBR 7030 (Gallon=3,785 литра)
Производитель: Merck Performance Materials
-
Merck Performance Materials
Фоторезист AZ 40XT-11D — 3.785 л
по запросуAZ 40XT-11D (Галлон 3.785л) Electronic Material — позитивный фоторезист повышенной толщины с химическим усилением; отличается высокой фотоскоростью для гальванических работ. Экспонирование и проявление фоторезиста происходит очень быстро, что повышает производительность оборудования и снижает потребление химикатов.
ХАРАКТЕРИСТИКИ:
Толщина фотослоя — >30 мкм
Проявители -AZ® 400K, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF
Средства удаления — AZ® 100 Remover, TechniStrip® P1316, TechniStrip® P1331, Intelligent fluids SH5Производитель: Merck Performance Materials
-
Merck Performance Materials
Фоторезист AZ®-1518 3.785 л
по запросуФоторезист AZ® 1518 — тонкий позитивный резист с высоким потенциалом разрешения для влажного травления.
Производитель: Merck Performance Materials
-
Merck Performance Materials
Антиотражающее покрытие AZ® AQUATAR-VIII-A45
по запросуAZ® Aquatar-VIII-A 45 — это антибликовое покрытие верхнего слоя для использования с линиями g и i.
Производитель: Merck Performance Materials
