Один из лучших позитивных фоторезистов для процессов жидкостного травления в микроэлектронике. Превосходит по устойчивости в жидкостных травителях все существующие на рынке отечественные и импортные фоторезисты. Обладает высокой адгезией ко всем полупроводниковым и металлическим поверхностям. Не требует обработки поверхности промотором адгезии.
Фоторезист может использоваться как для контактной, так и для проекционной фотолитографии. Имеет превосходный контраст и светочувствительность.