Loading...

Фоторезист AZ 10XT (220cP) — 3.785 л

по запросу

AZ® 10XT — позитивный фоторезист повышенной толщины для нанесения покрытий с улучшенными профилями боковых стенок, высокого разрешения.

ХАРАКТЕРИСТИКИ:
Толщина пленки — ≈ 5 — 20 мкм
Проявители — AZ® 400K, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF
Средства удаления — AZ® 100 Remover, TechniStrip® P1316, TechniStrip® P1331, Intelligent fluids SH5

, , ,

ОБЛАСТИ ПРИМЕНЕНИЯ:
Толстые фоторезисты для нанесения покрытий и травления.
Припой, Cu, Au

ПРЕИМУЩЕСТВА ФОТОРЕЗИСТA AZ® 10XT

  • Совместимость с MIF и IN проявителем;
  • Выпекание после выдержки не требуется;
  • Толщина одного слоя от 5,0 до 20 мкм.

Тип: Позитивный

Производитель: Merck Performance Materials

Толщина фотослоя: 5-20 мкм

По сравнению с серией AZ® 4500, резисты AZ® 10XT имеют более низкое оптическое поглощение. Это упрощает экспонирование (также очень) толстых резистивных пленок. Поэтому, в сочетании с отсутствующей чувствительностью к g-линии, серия AZ® 10XT требует более длительного времени экспонирования в условиях широкополосной связи и показывает более низкую скорость проявления по сравнению с пленками AZ® 4500, обработанными в тех же условиях. С другой стороны, AZ® 10XT показывает очень высокое соотношение сторон и разрешение. Для более низких толщин резистивной пленки мы рекомендуем разбавление растворителем PGMEA = AZ® EBR. Следующие толщины резистивной пленки относятся к 4000 об/мин в стандартных условиях:

Похожие товары

Антиотражающее покрытие AZ® Barli™ II 90

Rated 0 out of 5
по запросу
Антиотражающее покрытие AZ® Barli™ II 90
GaN on SiC Epitaxy wafer (4”=100mm, (5-6)mkm)

GaN on SiC Epitaxy wafer (4”=100mm, (5-6)mkm)

Rated 0 out of 5
по запросу

Список

close