Loading...

Фоторезист AZ®-1518 3.785 л

по запросу

Фоторезист AZ® 1518 — тонкий позитивный резист с высоким потенциалом разрешения для влажного травления.

Производитель: Merck Performance Materials

, , ,

Фоторезист AZ® 1518

Серия фоторезистов AZ® 1500 обеспечивает улучшенную адгезию для всех обычных процессов влажного травления. Латеральное разрешение зависит от толщины пленки резиста и достигает долей мкм. Повышенная толщина пленки резиста AZ® 1518 улучшает стабильность маски резиста для процессов влажного травления. При 4000 об/мин можно достичь толщины покрытия приблизительно 1,8 мкм. Толщина покрытия приблизительно 1,5–3,0 мкм также может быть достигнута путем изменения скорости вращения.

Свойства продукта:
Улучшенная адгезия резиста ко всем распространенным материалам подложки.
Широкий диапазон параметров процесса для стабильных и воспроизводимых литографических процессов.
Высокая скорость проявления.
Совместим со всеми распространенными проявителями (на основе NaOH, KOH или TMAH).
Совместим со всеми распространенными смывками (например, с AZ® 100 Remover, органическими растворителями или водными щелочами).
Чувствительность к g-, h- и i-линиям (прибл. 320–440 нм).
Диапазон толщины пленки резиста прибл. 1,5 мкм – 3,0 мкм.

Технические характеристики (Eng)

Похожие товары

Фоторезист AZ 40XT-11D — 3.785 л

Rated 0 out of 5
по запросу
Фоторезист AZ 40XT-11D — 3.785 л
Модели видимого диапазона

Модели видимого диапазона

Rated 0 out of 5
по запросу

Список

close