Loading...

Фоторезист AZ 40XT-11D — 3.785 л

по запросу

AZ  40XT-11D (Галлон 3.785л) Electronic Material — позитивный фоторезист повышенной толщины с химическим усилением; отличается высокой фотоскоростью для гальванических работ. Экспонирование и проявление фоторезиста происходит очень быстро, что повышает производительность оборудования и снижает потребление химикатов.

ХАРАКТЕРИСТИКИ:
Толщина фотослоя — >30 мкм
Проявители -AZ® 400K, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF
Средства удаления — AZ® 100 Remover, TechniStrip® P1316, TechniStrip® P1331, Intelligent fluids SH5

Производитель: Merck Performance Materials

, , ,

Технические характеристики (Eng)

AZ  40XT-11D (Галлон 3.785л) Electronic Material. Купить/заказать в Нижнем Новгороде.

Тип: Позитивный

ОБЛАСТИ ПРИМЕНЕНИЯ:
Толстый фоторезист с усилением для травления и нанесения покрытий.
Применение: Травление, припой,Cu
Струйный принтер

AZ® 40XT для толщины пленки резиста 15 — 100 мкм (i-line) Химически усиленный AZ® 40 XT — это сверхтолстый резист, высокая вязкость которого позволяет получать очень большую толщину пленки резиста с помощью одного покрытия. Он не требует регидратации, требует низких доз света, не выделяет азот во время экспозиции и очень быстро проявляется, что позволяет значительно сократить время обработки по сравнению со стандартными толстыми пленками резиста. Однако AZ® 40XT обязательно требует постэкспозиционной сушки для проявления.

 

ПРЕИМУЩЕСТВА ФОТОРЕЗИСТA AZ® 40XT-11D:

  • Превосходная химическая устойчивость;
  • Выдержка для регидратации, следующая за сушкой после проявления, не требуется;
  • Толщина одного слоя от 20 до 60 мкм;
  • Отлично подходят для технологий сквозного вывода в кремнии (TSV), гальванического осаждения и реактивно-ионного травления (РИТ).

ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ УСЛОВИЯ
Покрытие: 30 об/мин, пленка толщиной 40 мкм на кремниевой подложке без покрытия
Сушка: Сушильный шкаф, 125 °C / 120 с
Выдержка после проявления: НЕТ
Экспонирование: Установка совмещения Suss MA-200, микрозазор 20 мкм, номин. значение 400 Дж/см2
Термообработка после экспонирования: 105 °C / 120 с, сушильный шкаф
Проявитель: Ванночка, распыление или погружение
AZ 300MIF, 4 x 60 секунд, ванночка

Производитель: Merck Performance Materials

Толщина фотослоя: >30 мкм

Похожие товары

Толстослойный фоторезист ФП-25 ЭКО

Rated 0 out of 5
по запросу
Толстослойный фоторезист ФП-25 ЭКО
Фоторезист AZ®-1518 3.785 л

Фоторезист AZ®-1518 3.785 л

Rated 0 out of 5
по запросу

Список

close