Каталог
Отображение 21–40 из 178
View :
-
Merck Performance Materials
Фоторезист AZ 10XT (220cP) — 3.785 л
по запросуAZ® 10XT — позитивный фоторезист повышенной толщины для нанесения покрытий с улучшенными профилями боковых стенок, высокого разрешения.
ХАРАКТЕРИСТИКИ:
Толщина пленки — ≈ 5 — 20 мкм
Проявители — AZ® 400K, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF
Средства удаления — AZ® 100 Remover, TechniStrip® P1316, TechniStrip® P1331, Intelligent fluids SH5 -
Dow и DuPont
Фоторезист с высоким разрешением MEGAPOSIT SPR 955-0,7 (3,785л)
по запросуФоторезист MEGAPOSIT™ SPR™955 CM-0.7 / 0.7 µm @ 3000 rpm
Производитель: Dow Chemical Company
-
Dow и DuPont
MICROPOSIT S1805G2
по запросуТип: Позитивный
Производитель: Dow Chemical Company
Толщина фотослоя: 0,7-2,8 мкм
-
Merck Performance Materials
Антиотражающее покрытие AZ® Barli™ II 90
по запросуAZ ® BARLi ™ II 90 — это антибликовое покрытие для нижнего слоя, предназначенное для использования на сильно отражающих поверхностях в полупроводниковой промышленности.
3.785 л.
-
Merck Performance Materials
Антиотражающее покрытие AZ® BARLI™ II200
по запросуAZ ® BARLi™ II 200 — это антибликовое покрытие для нижнего слоя, предназначенное для использования на сильно отражающих поверхностях в полупроводниковой промышленности.
Производитель: Merck Performance Materials
-
Merck Performance Materials
Антиотражающее покрытие AZ® AQUATAR-VIII-A45
по запросуAZ® Aquatar-VIII-A 45 — это антибликовое покрытие верхнего слоя для использования с линиями g и i.
Производитель: Merck Performance Materials
-
Dow и DuPont
Проявитель MEGAPOSIT™ MF-26 A
по запросуMEGAposit MF-26A Developer (Gallon=3,785 литра)
-
Merck Performance Materials
Растворитель жидкий Solvent AZ EBR 7030
по запросуРастворитель жидкий Solvent AZ EBR 7030 (Gallon=3,785 литра)
Производитель: Merck Performance Materials
-
Фотошаблонные заготовки
GaN on SiC Epitaxy wafer (6”=150mm, (11-12)mkm)
по запросуBest Compound Semiconductor Co.Ltd. (China)
-
Фотошаблонные заготовки
GaN on SiC Epitaxy wafer (6”=150mm, (5-6)mkm)
по запросуBest Compound Semiconductor Co.Ltd. (China)
-
Фотошаблонные заготовки
GaN on SiC Epitaxy wafer (4”=100mm, (11-12)mkm)
по запросуBest Compound Semiconductor Co.Ltd. (China)
-
Фотошаблонные заготовки
GaN on SiC Epitaxy wafer (4”=100mm, (5-6)mkm)
по запросуBest Compound Semiconductor Co.Ltd. (China)
-
-
Пленка DENKA
Фиксирующая пленка Denka UV type UDV-80J
по запросуБазовая пленка — Поливинилхлорид (ПВХ)
Цвет — прозрачный
Общая толщина (мкм) — 80
Толщина клея (адгезивного слоя) (мкм) — 10
Прочность клея (после УФ-облучения) (Н/20 мм) — 2.64(0.10)
Липкость зонда (Н/20 мм2) — 1.98Демонстрирует превосходную приемистость. -
Пленка DENKA
Пленка фиксирующая Denka BGE-122S
по запросуБазовая пленка — этиленвинилацетат (ЭВА)
Цвет — Светло-голубой
Общая толщина (мкм) — 140
Толщина клея (адгезивного слоя) (мкм) — 20
Прочность клея (Н/20 мм) — 1.30
Липкость зонда (Н/20 мм2) — 1.19Стандартная.
-
Лента с адгезивным слоем
Лента с адгезивным слоем UHP-0810SGE2
по запросуБазовая пленка — Полиолефин (ПО)
Цвет — молочно-белый
Общая толщина (мкм) — 90
Толщина клея (адгезивного слоя) (мкм) -10
Прочность клея (после УФ-облучения) (Н/20 мм) — 6.8(0.15)
Липкость зонда (Н/20 мм2) — 1.22 -
Пленка DENKA
Пленка DENKA UHP-110M3
по запросуБазовая пленка — Полиолефин (ПО)
Цвет — молочно-белый
Общая толщина (мкм) — 110
Толщина клея (адгезивного слоя) (мкм) — 10
Прочность клея (после УФ-облучения) (Н/20 мм) — 6.54 (0.09)
Липкость зонда (Н/20 мм2) — 3.39Совместимо с микросхемами малого размера.
-
Пленка DENKA
Пленка фиксирующая Denka BGE-124S
по запросуБазовая пленка — этиленвинилацетат (ЭВА)
Цвет — Светло-голубой
Общая толщина (мкм) — 160
Толщина клея (адгезивного слоя) (мкм) — 40
Прочность клея (Н/20 мм) — 1.41
Липкость зонда (Н/20 мм2) — 1.29Для подложек с выпуклой средней частью.
-
Пленка DENKA
Пленка Denka UV type UAV-80J
по запросуБазовая пленка — Поливинилхлорид (ПВХ)
Цвет — прозрачный
Общая толщина (мкм) — 80
Толщина клея (адгезивного слоя) (мкм) — 10
Прочность клея (после УФ-облучения) (Н/20 мм) — 4.6(0.05)
Липкость зонда (Н/20 мм2) — 1.4 -
Пленка DENKA
Пленка DENKA UHP-1525М3
по запросуБазовая пленка — Полиолефин (ПО)
Цвет — молочно-белый
Общая толщина (мкм) — 175
Толщина клея (адгезивного слоя) (мкм) — 25
Прочность клея (после УФ-облучения) (Н/20 мм) — 11.49 (0.09)
Липкость зонда (Н/20 мм2) — 5.10Совместимо с заготовками, которые невероятно антиадгезивны.
